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     技术中心专注于新技术,新产品,新工艺的研发,同时,中心组织项目团队,就生产中出现的技术问题进行技术攻关,改进生产工艺;在技术创新方面,中心围绕纯硅材料,硅晶体生长,大晶体铸锭,大尺寸硅片,薄片,以及设备国产化等技术开展技术攻关。
   技术中心积极发展与科研领先的国内外研究单位的合作,利用省内外,国内外高校,研究所的人力和设备资源,共同开展课题的研究,公司现与南昌大学,上海交通大学签订了长期合作协议,并在学校内设立了以LDK命名的实验室。
   同时,赛维LDK与国外企业进行技术合作,引进美国GT 公司的大型多晶浇铸炉,坩埚喷涂机,硅料腐蚀清洗机;瑞士HCT 公司的线剖方机,线切割机,浆料回收系统;德国RENA 公司的全自动硅片清洗机。
   
 
配料技术的研发:
   半导体工业废料的回收技术
   碎硅片的回收利用
   P-N型掺杂料的配用
   
 
长晶技术的研发:
   增加硅锭重量,从240公斤到 450公斤
   缩短长晶时间 从60 小时到 50小时
   运用氦气缩短冷却时间
   
 
切片技术的研发:
   硅片的尺寸增加 从125到156到210mm
   硅片厚度 从270到240, 220和 200微米
   用更细切割线导致切割损失减少
 
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